超高速エレクトロニクス研究棟


このクリーンルーム内には数多くの装置が配置され
デバイス作成過程のほとんどをこの中で行うことができます。
共用装置が多いのですが、ここでは小田研管理の装置について説明します。

ECR-RIE

反応性イオンビームエッチング装置現在,CF4ガスとArガスを使用して微細パターンのエッチングを行っています。
プラズマクリーナー

並行平板型プラズマエッチャー陽極結合方式、陰極結合方式の両方とも同時に行うことができます。
使用ガスは酸素とフロン任意の混合比で使用できます。
エリプソメータ

非常に手軽に膜厚と複素誘電率の測定が行えます。